[实用新型]一种等离子体原子层沉积的反应装置

权利要求书

1.一种等离子体原子层沉积的反应装置，其特征在于，包括反应腔体(6)，所述反应腔体(6)内设置有载具(8)，所述载具(8)为至少一组平行排列的平板，平板间隔连接并引出反应腔体外，分别接等离子电源(9)的两极，加热炉管(7)环绕反应腔体(6)设置，所述反应腔体(6)的一端设置有出气端，出气端与真空泵(10)连接；

所述反应腔体(6)还设置有至少一个进气端(20)、端部进气口(21)以及中部进气口(22)，所述进气端(20)与端部进气口(21)、中部进气口(22)连接，所述进气端(20)向外与气源连接。

2.根据权利要求1所述的等离子体原子层沉积的反应装置，其特征在于，所述端部进气口(21)设置于远离出气端的反应腔体(6)一端。

3.根据权利要求1所述的等离子体原子层沉积的反应装置，其特征在于，所述端部进气口(21)的气体流向与反应腔体(6)的长度方向平行。

4.根据权利要求1所述的等离子体原子层沉积的反应装置，其特征在于，所述中部进气口(22)设置于反应腔体(6)的出气端与端部进气口(21)之间。

5.根据权利要求1所述的等离子体原子层沉积的反应装置，其特征在于，所述中部进气口(22)的气体传输方向与载具(8)所在平面平行。

6.根据权利要求1所述的等离子体原子层沉积的反应装置，其特征在于，所述中部进气口(22)为管道式或板式。

7.根据权利要求1所述的等离子体原子层沉积的反应装置，其特征在于，所述出气端的真空泵(10)与反应腔体(6)之间设置有极速排气阀门(5)。

8.根据权利要求1所述的等离子体原子层沉积的反应装置，其特征在于，所述气源包括化学源(16)，载气(17)以及至少两种反应气体，所述反应腔体(6)的进气端(20)与化学源(16)之间设有第一阀门(11)；化学源(16)与载气(17)之间设有第二阀门(12)；反应腔体(6)的进气端与载气(17)之间设有第三阀门(13)；反应腔体(6)的进气端与不同反应气体之间分别设置有阀门。