[实用新型]半导体设备及其设备前端腔室有效
| 申请号： | 202020490194.9 | 申请日： | 2020-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN211907379U | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 赵晓建 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;王婷 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请实施例提供了一种半导体设备及其设备前端腔室。该设备前端腔室，包括腔体和进气装置，进气装置设置于腔体上；进气装置包括冷凝组件，冷凝组件用于制冷以降低进入腔体的空气的温度，使空气中的水汽凝结为冷凝水。本申请实施例由于降低了腔体内空气中水汽的含量，因此解决了设备前端腔室内部框架及部件被氢卤酸腐蚀的问题，延长了定期清洁保养周期及提高使用率；同时还减少因腐蚀产生的颗粒对刻蚀缺陷影响，进而提高了晶圆刻蚀的良率。另外本申请实施例由于结构简单，还能有效降低应用及维护成本，从而大幅提高经济效益。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体设备 及其 设备 前端 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方华创微电子装备有限公司，未经北京北方华创微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202020490194.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：照明风扇
- 下一篇：一种采煤机的防尘机构
