[实用新型]用于掩膜版光刻胶的缓存装置有效
申请号: | 202020430760.7 | 申请日: | 2020-03-30 |
公开(公告)号: | CN211996679U | 公开(公告)日: | 2020-11-24 |
发明(设计)人: | 林伟;林超;周荣梵 | 申请(专利权)人: | 成都路维光电有限公司 |
主分类号: | B65D25/02 | 分类号: | B65D25/02;B65D25/20;B65D53/02;B08B9/093;B08B13/00;G03F7/16 |
代理公司: | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 余翔 |
地址: | 610000 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于掩膜版光刻胶的缓存装置,包括桶体、桶盖和密封圈,桶盖上设置有进气管和进液管,桶体底部设置有出液管,所述桶盖上还设置有清洗管,清洗管伸入桶体内,清洗管伸入桶体一端的侧面上均匀布置有圆孔喷嘴,桶体底部设置有废液排出管;本实用新型通过在清洁管内通入高压的清洁药液,清洁药液再通过圆孔喷嘴喷射至桶体的内壁,将桶体内壁残留的光刻胶清洁干净,清洁后的废液再通过废液排出管排出桶体;相比于传统拆卸式的清洁方式而言,本实用新型的清洁过程无需拆卸装置,省时省力,自动化程度高,提高了工作效率,降低了清洁风险,可更好的保护设备。 | ||
搜索关键词: | 用于 掩膜版 光刻 缓存 装置 | ||
【主权项】:
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