[实用新型]用于掩膜版光刻胶的缓存装置有效

专利信息
申请号: 202020430760.7 申请日: 2020-03-30
公开(公告)号: CN211996679U 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 林伟;林超;周荣梵 申请(专利权)人: 成都路维光电有限公司
主分类号: B65D25/02 分类号: B65D25/02;B65D25/20;B65D53/02;B08B9/093;B08B13/00;G03F7/16
代理公司: 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 代理人: 余翔
地址: 610000 四川*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种用于掩膜版光刻胶的缓存装置,包括桶体、桶盖和密封圈,桶盖上设置有进气管和进液管,桶体底部设置有出液管,所述桶盖上还设置有清洗管,清洗管伸入桶体内,清洗管伸入桶体一端的侧面上均匀布置有圆孔喷嘴,桶体底部设置有废液排出管;本实用新型通过在清洁管内通入高压的清洁药液,清洁药液再通过圆孔喷嘴喷射至桶体的内壁,将桶体内壁残留的光刻胶清洁干净,清洁后的废液再通过废液排出管排出桶体;相比于传统拆卸式的清洁方式而言,本实用新型的清洁过程无需拆卸装置,省时省力,自动化程度高,提高了工作效率,降低了清洁风险,可更好的保护设备。
搜索关键词: 用于 掩膜版 光刻 缓存 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都路维光电有限公司,未经成都路维光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202020430760.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top