[实用新型]用于掩膜版光刻胶的缓存装置有效

专利信息
申请号: 202020430760.7 申请日: 2020-03-30
公开(公告)号: CN211996679U 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 林伟;林超;周荣梵 申请(专利权)人: 成都路维光电有限公司
主分类号: B65D25/02 分类号: B65D25/02;B65D25/20;B65D53/02;B08B9/093;B08B13/00;G03F7/16
代理公司: 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 代理人: 余翔
地址: 610000 四川*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 掩膜版 光刻 缓存 装置
【权利要求书】:

1.用于掩膜版光刻胶的缓存装置,包括桶体(1)、桶盖(2)和密封圈(3),桶盖(2)上设置有进气管(21)和进液管(22),桶体底部设置有出液管(11),其特征在于,所述桶盖(2)上还设置有清洗管(23),清洗管(23)伸入桶体(1)内,清洗管(23)伸入桶体(1)一端的侧面上均匀布置有圆孔喷嘴(231),桶体底部设置有废液排出管(12)。

2.如权利要求1所述的用于掩膜版光刻胶的缓存装置,其特征在于,所述桶体(1)侧面设置有沿桶体高度方向布置的液位显示管(4),液位显示管(4)与桶体(1)连通,液位显示管(4)上自上而下依次设置有高位传感器(41)和低位传感器(42)。

3.如权利要求1所述的用于掩膜版光刻胶的缓存装置,其特征在于,所述桶体(1)口部设置有台阶(13),所述密封圈(3)布置在台阶(13)上,桶体(1)和桶盖(2)螺纹连接。

4.如权利要求1所述的用于掩膜版光刻胶的缓存装置,其特征在于,所述进气管(21)、进液管(22)和清洗管(23)均与桶盖(2)螺纹连接。

5.如权利要求1所述的用于掩膜版光刻胶的缓存装置,其特征在于,所述出液管(11)和废液排出管(12)均与桶体(1)螺纹连接。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都路维光电有限公司,未经成都路维光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202020430760.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top