[实用新型]一种多晶硅还原炉废气抽真空淋洗装置有效

专利信息
申请号: 202020268360.0 申请日: 2020-03-06
公开(公告)号: CN212142093U 公开(公告)日: 2020-12-15
发明(设计)人: 高志明;高承燕;鲍守珍;甘易武;王明强;郑连基 申请(专利权)人: 亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司
主分类号: B01D53/78 分类号: B01D53/78;B01D53/68
代理公司: 成都华风专利事务所(普通合伙) 51223 代理人: 杜朗宇
地址: 810007 青海*** 国省代码: 青海;63
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种多晶硅还原炉废气抽真空淋洗装置,涉及多晶硅生产领域,包括还原炉、射流真空泵、水封槽和淋洗塔,且淋洗塔安装在水封槽内;所述还原炉上安装有尾气输送管,且尾气输送管的出口端与淋洗塔的下端连接;所述射流真空泵安装在尾气输送管上,且射流真空泵上还安装有进水管。本实用新型在对废气进行淋洗过程中,不需要对还原炉内进行多次加压,有效防止还原炉内的硅棒或硅芯倒炉,使硅棒或硅芯的质量得到保证;同时,能有效使进入还原炉内的氮气能与多晶硅在还原过程中产生的废气进行充分置换,有效避免氮气浪费。
搜索关键词: 一种 多晶 还原 废气 真空 淋洗 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司,未经亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202020268360.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top