[实用新型]一种多晶硅还原炉废气抽真空淋洗装置有效
申请号: | 202020268360.0 | 申请日: | 2020-03-06 |
公开(公告)号: | CN212142093U | 公开(公告)日: | 2020-12-15 |
发明(设计)人: | 高志明;高承燕;鲍守珍;甘易武;王明强;郑连基 | 申请(专利权)人: | 亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司 |
主分类号: | B01D53/78 | 分类号: | B01D53/78;B01D53/68 |
代理公司: | 成都华风专利事务所(普通合伙) 51223 | 代理人: | 杜朗宇 |
地址: | 810007 青海*** | 国省代码: | 青海;63 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种多晶硅还原炉废气抽真空淋洗装置,涉及多晶硅生产领域,包括还原炉、射流真空泵、水封槽和淋洗塔,且淋洗塔安装在水封槽内;所述还原炉上安装有尾气输送管,且尾气输送管的出口端与淋洗塔的下端连接;所述射流真空泵安装在尾气输送管上,且射流真空泵上还安装有进水管。本实用新型在对废气进行淋洗过程中,不需要对还原炉内进行多次加压,有效防止还原炉内的硅棒或硅芯倒炉,使硅棒或硅芯的质量得到保证;同时,能有效使进入还原炉内的氮气能与多晶硅在还原过程中产生的废气进行充分置换,有效避免氮气浪费。 | ||
搜索关键词: | 一种 多晶 还原 废气 真空 淋洗 装置 | ||
【主权项】:
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