[实用新型]一种多晶硅还原炉废气抽真空淋洗装置

说明书

本实用新型公开了一种多晶硅还原炉废气抽真空淋洗装置,涉及多晶硅生产领域，包括还原炉、射流真空泵、水封槽和淋洗塔，且淋洗塔安装在水封槽内；所述还原炉上安装有尾气输送管，且尾气输送管的出口端与淋洗塔的下端连接；所述射流真空泵安装在尾气输送管上，且射流真空泵上还安装有进水管。本实用新型在对废气进行淋洗过程中，不需要对还原炉内进行多次加压，有效防止还原炉内的硅棒或硅芯倒炉，使硅棒或硅芯的质量得到保证；同时，能有效使进入还原炉内的氮气能与多晶硅在还原过程中产生的废气进行充分置换，有效避免氮气浪费。

技术领域

本实用新型涉及多晶硅生产领域，具体而言，涉及一种多晶硅还原炉废气抽真空淋洗装置。

背景技术

随着太阳能光伏产业的迅速发展，多晶硅的需求将持续增长。多晶硅生产中产生的废气大多属于易燃易爆、有毒有害物质，主要来源于精馏工序、还原工序、尾气回收工序(CDI)、氢化工序和合成工序等。

目前，多晶硅生产企业基本上都采用碱液淋洗法对多晶硅废气进行处理。但在还原炉运行中，由于受限于还原炉结构，进入还原炉内的氮气需从底盘处进入，排出还原炉的氯硅烷需从底盘处排出，从而使进入到还原炉内的氮气不能对还原炉内的气体进行完全置换，从而需多次向还原炉内加入氮气进行加压置换，最后再将置换产生的废气送入到淋洗塔进行处理，整个过程不仅需花费大量时间，且使氮气被大量浪费；同时，还原炉在多次加压过程中容易导致炉内硅棒或硅芯倒炉。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种多晶硅还原炉废气抽真空淋洗装置，以解决上述问题。

为实现本实用新型目的，采用的技术方案为：一种多晶硅还原炉废气抽真空淋洗装置，包括还原炉、射流真空泵、水封槽和淋洗塔，且淋洗塔安装在水封槽内；所述还原炉上安装有尾气输送管，且尾气输送管的出口端与淋洗塔的下端连接；所述射流真空泵安装在尾气输送管上，且射流真空泵上还安装有进水管。

进一步的，所述进水管的出口端还并联有多个喷淋管，多个喷淋管的出口端均延伸至淋洗塔内，且多个喷淋管的出口端沿淋洗塔的高度方向依次排布。

进一步的，每个所述喷淋管的出口端均安装有雾化喷头。

进一步的，还包括废水循环槽，废水循环槽与进水管的出口端连接有传输管，且废水循环槽上还连接有排空管；所述淋洗塔的顶部还安装排放管，且排放管的出口端延伸至废水循环槽的槽底。

进一步的，所述废水循环槽与水封槽之间还连接有循环管道。

进一步的，所述水封槽上还连接有排液管，且排液管的出口端与进水管的进口端连接。

进一步的，所述排液管上还安装有循环泵，且排液管的出口端还并联有废水排除管。

进一步的，所述废水排除管上还安装有第一开关阀。

进一步的，所述排液管上还并联有进液管，且进液管上还安装有第二开关阀。

进一步的，所述排液管的两端均安装有截止阀。

进一步的，所述尾气输送管出口端的口径小于进水管的口径。

本实用新型的有益效果是,

通过在尾气输送管道上安装射流真空泵，并将射流真空泵与进水管连接，射流真空泵通过机械、物理、化学和物化的原理，使还原炉内保持真空状态，使进入还原炉内的氮气能与多晶硅在还原过程中产生的废气进行充分置换，有效避免氮气浪费；同时，本实用新型在对废气进行淋洗过程中，不需要对还原炉内进行多次加压，有效防止还原炉内的硅棒或硅芯倒炉，使硅棒或硅芯的质量得到保证。

本实用新型通过采用循环管道和排液管的配合，使淋洗后未充分反应的碱性液体能进行重复利用，有效避免资源浪费。

附图说明