[实用新型]一种TOPCon电池双面镀膜设备有效
| 申请号： | 202020158312.6 | 申请日： | 2020-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN212293742U | 公开（公告）日： | 2021-01-05 |
| 发明（设计）人： | 刘群;林佳继;庞爱锁;林依婷 | 申请（专利权）人： | 拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/54 | 分类号： | C23C16/54;C23C16/458;C23C16/34;C23C16/40 |
| 代理公司： | 杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙) 33283 | 代理人： | 董世博 |
| 地址： | 214192 江苏省无锡*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供一种TOPCon电池双面镀膜设备，包括用于镀膜操作的真空炉腔，所述真空炉腔上设有炉口所述真空炉腔上设有炉口，包括硅片载具和电极组结构，所述硅片载具能够装载到炉门上，所述炉门能够在载板升降模组的驱动下带动硅片载具移动；所述电极组结构能够在电极组平移机构的驱动下在所述真空炉腔内移动从而与所述硅片载具结合或者分离；所述真空炉腔底部设有抽真空接口。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 topcon 电池 双面 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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