[发明专利]一种微波等离子体化学气相沉积系统有效
申请号: | 202011638435.0 | 申请日: | 2020-12-31 |
公开(公告)号: | CN112853327B | 公开(公告)日: | 2021-09-24 |
发明(设计)人: | 季宇;刘文科;季天仁 | 申请(专利权)人: | 成都纽曼和瑞微波技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/511 | 分类号: | C23C16/511;C23C16/27;C23C16/54;C23C16/52 |
代理公司: | 北京卓恒知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11394 | 代理人: | 孔鹏 |
地址: | 610000 四川省成都*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明提供了一种等微波等离子体化学气相沉积系统,属于微波技术领域。上述等离子体设备主机包括机架、真空腔基座、腔盖及升降装置;真空腔基座与机架连接,真空腔基座的中部设置有样品基片台;腔盖能够与真空基座进行密封配合。升降装置的底部与机架连接,上部与腔盖连接,升降装置能够带动腔盖上下移动。使用时,通过操作升降装置起吊或下降,从而将腔盖打开或扣合在真空腔基座上。采用上述升降装置后,其不仅提高了工作效率,还降低了操作人员的劳动强度。 | ||
搜索关键词: | 一种 微波 等离子体 化学 沉积 系统 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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