[发明专利]一种大尺寸光学陀螺楔形腔及其制备方法和应用

摘要

本发明提供了一种大尺寸光学陀螺楔形腔及其制备方法和应用，其制备方法包括：依次在Si晶元表面构建SiO2氧化层和掩膜层；采用接触式紫外曝光的方式对所述掩膜层进行光刻曝光处理，清除掩膜层中的多余部分；对所述SiO2氧化层进行BOE腐蚀，在掩膜层内侧形成SiO2楔形腔，随后清除附着在所述SiO2楔形腔表面的掩膜层；采用XeF2气体对所述Si晶元表面进行刻蚀处理，在所述SiO2楔形腔内侧形成Si楔形腔。本发明解决了Si基材料中难以加工成型大尺寸的楔形腔的问题，可在Si基晶圆上实现特定倾角且表面平坦的楔形结构并获得超高品质因素的光学谐振，具有工艺简单、表面平整度高和易于实现等优点。