[发明专利]具有粒子消除功能的ICP-MS在审

专利信息
申请号: 202011614128.9 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN112863997A 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: 陈悠;俞晓峰;李明;尹伊君;徐岳;金振弘;韩双来 申请(专利权)人: 杭州谱育科技发展有限公司
主分类号: H01J49/24 分类号: H01J49/24;H01J49/00;H01J49/42
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 311305 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供了具有粒子消除功能的ICP‑MS,包括炬管、采样锥和真空腔;离子偏转透镜组设置在所述真空腔的第一室内,所述真空腔的第二室内设置离子传输透镜和质量分析器;腔室设置在所述第一室的下侧,所述炬管竖直地设置在所述腔室内,所述采样锥设置在所述腔室内;所述炬管出射的离子穿过采样锥进入所述第一室内,经所述离子偏转透镜组偏转后进入第二室内,依次穿过所述第一通孔、传输透镜、质量分析器和第二通孔;泵连通所述第一室的气体出口,所述气体出口偏离所述采样锥的中心轴线。本发明具有工作性能好等优点。
搜索关键词: 具有 粒子 消除 功能 icp ms
【主权项】:
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