[发明专利]一种自动聚焦曝光方法在审
| 申请号： | 202011597740.X | 申请日： | 2020-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN112684670A | 公开（公告）日： | 2021-04-20 |
| 发明（设计）人： | 潘浩源 | 申请（专利权）人： | 中山新诺科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 伍传松 |
| 地址： | 528400 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种自动聚焦曝光方法，包括以下步骤：获取光刻胶板表面的平整数据；将所述平整数据中的每一个数值与设定的参考值进行比较，当所述平整数据中的某个数值与所述参考值差值的绝对值超过设定阈值时，使用过渡值代替该数值，当所述平整数据中的某个数值与所述参考值差值的绝对值未超过所述设定阈值时，保留该数值；根据上述步骤得到的新的平整数据，对所述光刻胶板进行曝光。通过本发明的上述方法，可以实现曝光机整体曝光效果的改善，使曝光更加均匀，且不会产生暗印，从而提高了使用光刻胶板进行曝光的良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 自动 聚焦 曝光 方法 | ||
【主权项】：
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