[发明专利]一种自动聚焦曝光方法

权利要求书

1.一种自动聚焦曝光方法，其特征在于，包括如下步骤：

S100、获取光刻胶板(100)表面的平整数据；

S200、将所述平整数据中的每一个数值与设定的参考值进行比较，当所述平整数据中的某个数值与所述参考值差值的绝对值超过设定阈值时，使用过渡值代替该数值；当所述平整数据中的某个数值与所述参考值差值的绝对值未超过所述设定阈值时，保留该数值；

S300、根据步骤S200得到的新的平整数据，对所述光刻胶板(100)进行曝光。

2.根据权利要求1所述的自动聚焦曝光方法，其特征在于，步骤S100具体包括：

S101、使用距离传感器(200)对所述光刻胶板(100)进行逐行测量；

S102、将步骤S101获得的距离数据与曝光焦点的基准值相减得到所述光刻胶板(100)表面的平整数据。

3.根据权利要求2所述的自动聚焦曝光方法，其特征在于，步骤S102中所述基准值为正常聚焦时所述距离传感器(200)到所述光刻胶板(100)的距离。

4.根据权利要求2所述的自动聚焦曝光方法，其特征在于，步骤S200中所述过渡值的计算步骤如下：

当该数值为每一行的第一个数值或者最后一个数值时，所述过渡值为该数值与所述基准值的平均值；

当该数值不是每一行的第一个数值和最后一个数值时，所述过渡值为该数值之前的数值与其之后的数值的平均值。

5.根据权利要求1所述的自动聚焦曝光方法，其特征在于，所述设定阈值为8微米。