[发明专利]一种相移掩膜版以及光刻机狭缝透光均匀性的检测方法

摘要

本发明实施例公开了一种相移掩膜版以及光刻机狭缝透光均匀性的检测方法。该检测方法包括：利用第一相移掩膜版，按照预设的曝光剂量在第一测试硅片上分别以不同的焦面位置进行曝光；检测不同焦面位置每个标记图形的相移误差，对相移误差和焦面位置的关系曲线进行拟合，并获得斜率slope’；计算每个标记图形对应的斜率slope与曝光剂量拟合直线的纵截距b’；最后根据每个标记图形的纵截距b’的离散度，确定狭缝照明的均匀性。本发明实施例可以解决现有照明均匀性测量只能采用离线测量的问题，不仅能够适应复杂多变的实际工况，还能快速判断是否需要重新校准垂向照明系统，简化测量流程，保证机台不停机，持续生产。