[发明专利]一种基于真空溅射腔室的贵金属回收工艺有效

专利信息
申请号: 202011514847.3 申请日: 2020-12-21
公开(公告)号: CN112680749B 公开(公告)日: 2021-09-28
发明(设计)人: 陈敏;周鑫;郭丽萍 申请(专利权)人: 江苏时代华宜电子科技有限公司
主分类号: C25C1/20 分类号: C25C1/20;C23C14/35;C23C14/56
代理公司: 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260 代理人: 朱晓林
地址: 214000*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明属于钼片技术领域,具体涉及一种基于真空溅射腔室的贵金属回收工艺,包括步骤1,将防着板全部浸入硝酸溶液中;步骤2,将防着板浸入电解溶液中;步骤3,将防着板浸入氢氟酸溶液中;步骤4,将防着板放入喷砂机中喷砂处理,完成防着板处理;步骤5,将步骤1和2中的溶液用过滤纱布过滤出沉淀或固体状钌;步骤6,将滤出的沉淀或固体钌再次浸入硝酸溶液中;步骤7,将步骤6中的溶液再次使用过滤纱布过滤,然后烘干即可得到金属钌。本发明不仅使得镀膜腔室处于干净清洁的状态,杜绝腔室被污染镀层被污染的可能性,同时可回收贵金属钌,提高效益减少浪费,减少对环境的污染。
搜索关键词: 一种 基于 真空 溅射 贵金属 回收 工艺
【主权项】:
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