[发明专利]一种反射补偿型的高密度多芯光纤光栅制备系统在审
| 申请号： | 202011512658.2 | 申请日： | 2020-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN112558216A | 公开（公告）日： | 2021-03-26 |
| 发明（设计）人： | 苑立波;王洪业 | 申请（专利权）人： | 桂林电子科技大学 |
| 主分类号： | G02B6/02 | 分类号： | G02B6/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 541004 广西*** | 国省代码： | 广西;45 |
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| 摘要： | 本发明提供的是一种反射补偿型的高密度多芯光纤光栅制备系统，系统包括紫外激光器、紫外反射镜、扩束镜、光阑、柱透镜、掩模板、光纤夹具、补偿反射镜和三维调节架。本发明提供的高密度多芯光纤光栅制备系统，通过补偿反射镜将通过相位掩模板的前向紫外光反射回光纤上，用来补偿由于光纤柱面效应导致的照射区域紫外光缺失的情况。本发明可有效改善刻写光束在光纤横截面上的光场分布，实现高密度多芯光纤及其他异形芯光纤光栅的制备。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 反射 补偿 高密度 光纤 光栅 制备 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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