[发明专利]一种反射补偿型的高密度多芯光纤光栅制备系统在审

专利信息
申请号: 202011512658.2 申请日: 2020-12-20
公开(公告)号: CN112558216A 公开(公告)日: 2021-03-26
发明(设计)人: 苑立波;王洪业 申请(专利权)人: 桂林电子科技大学
主分类号: G02B6/02 分类号: G02B6/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 541004 广西*** 国省代码: 广西;45
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摘要:
搜索关键词: 一种 反射 补偿 高密度 光纤 光栅 制备 系统
【权利要求书】:

1.一种反射补偿型的高密度多芯光纤光栅制备系统,其特征是:系统包括紫外激光器、紫外反射镜、扩束镜、光阑、柱透镜、掩模板、光纤夹具、补偿反射镜、三维调节架,补偿反射镜放置在三维调节架上;

激光器发出的光经紫外反射镜改变传播方向,经扩束镜放大光斑面积,由光阑选择光斑质量较好的区域,通过柱透镜后,光斑被聚焦成为线状光斑;光纤剥除涂覆层后放置在掩模板后方,由光纤夹具夹持;调整三维调节架,使补偿反射镜靠近光纤,经过掩模板的紫外光穿过光纤照射到补偿反射镜上,经反射面反射的光再一次照射到光纤上。

2.根据权利要求1所述的高密度多芯光纤光栅制备系统,其特征是:所述的补偿反射镜为半圆形、抛物线形或平面夹角形。

3.根据权利要求1所述的高密度多芯光纤光栅制备系统,其特征是:所述的补偿反射镜的长度不小于线状光斑的宽度。

4.根据权利要求1所述的高密度多芯光纤光栅制备系统,其特征是:所述的补偿反射镜的反射率不小于90%。

5.根据权利要求1所述的高密度多芯光纤光栅制备系统,其特征是:所述的紫外反射镜的反射率不小于95%。

6.根据权利要求1所述的高密度多芯光纤光栅制备系统,其特征是:所述的光栅掩模板可选用各种适用于光栅刻写的相位掩模板。

7.根据权利要求1所述的高密度多芯光纤光栅制备系统,其特征是:所述的三维调节架由计算机控制调节或手动调节。

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