[发明专利]一种反射补偿型的高密度多芯光纤光栅制备系统在审
| 申请号: | 202011512658.2 | 申请日: | 2020-12-20 |
| 公开(公告)号: | CN112558216A | 公开(公告)日: | 2021-03-26 |
| 发明(设计)人: | 苑立波;王洪业 | 申请(专利权)人: | 桂林电子科技大学 |
| 主分类号: | G02B6/02 | 分类号: | G02B6/02 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 541004 广西*** | 国省代码: | 广西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 反射 补偿 高密度 光纤 光栅 制备 系统 | ||
1.一种反射补偿型的高密度多芯光纤光栅制备系统,其特征是:系统包括紫外激光器、紫外反射镜、扩束镜、光阑、柱透镜、掩模板、光纤夹具、补偿反射镜、三维调节架,补偿反射镜放置在三维调节架上;
激光器发出的光经紫外反射镜改变传播方向,经扩束镜放大光斑面积,由光阑选择光斑质量较好的区域,通过柱透镜后,光斑被聚焦成为线状光斑;光纤剥除涂覆层后放置在掩模板后方,由光纤夹具夹持;调整三维调节架,使补偿反射镜靠近光纤,经过掩模板的紫外光穿过光纤照射到补偿反射镜上,经反射面反射的光再一次照射到光纤上。
2.根据权利要求1所述的高密度多芯光纤光栅制备系统,其特征是:所述的补偿反射镜为半圆形、抛物线形或平面夹角形。
3.根据权利要求1所述的高密度多芯光纤光栅制备系统,其特征是:所述的补偿反射镜的长度不小于线状光斑的宽度。
4.根据权利要求1所述的高密度多芯光纤光栅制备系统,其特征是:所述的补偿反射镜的反射率不小于90%。
5.根据权利要求1所述的高密度多芯光纤光栅制备系统,其特征是:所述的紫外反射镜的反射率不小于95%。
6.根据权利要求1所述的高密度多芯光纤光栅制备系统,其特征是:所述的光栅掩模板可选用各种适用于光栅刻写的相位掩模板。
7.根据权利要求1所述的高密度多芯光纤光栅制备系统,其特征是:所述的三维调节架由计算机控制调节或手动调节。
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