[发明专利]空间光调制器及其制备方法有效
| 申请号： | 202011499623.X | 申请日： | 2020-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN112596281B | 公开（公告）日： | 2022-12-23 |
| 发明（设计）人： | 田立飞;李智勇 | 申请（专利权）人： | 中国科学院半导体研究所 |
| 主分类号： | G02F1/01 | 分类号： | G02F1/01 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 鄢功军 |
| 地址： | 100083 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种空间光调制器，包括：反射层，用于对入射波进行反射；调制层，设置在所述反射层上，所述调制层的光学性质可调节，包括像素调制单元；电极层，设置在所述调制层上，包括调制电极，所述调制电极设置在所述像素调制单元上，所述调制电极通过改变施加在所述像素调制单元的电压完成改变调制层的光学性质，具有稳定性高，鲁棒性高，使用寿命长和调制速度高的特点。本发明还公开了一种空间光调制器的制备方法，通过采用调制电极通过改变像素调制单元的电压完成改变调制层的光学性质，进而实现对光波的调制，相较于液晶空间光调制器，具有加工步骤少、加工难度低、成品率高，生产成本低的有益效果。 | ||
| 搜索关键词： | 空间 调制器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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