[发明专利]一种磁控溅射镀膜的装置及其工作方法在审
| 申请号： | 202011460894.4 | 申请日： | 2020-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN112663009A | 公开（公告）日： | 2021-04-16 |
| 发明（设计）人： | 郑亮;李鸿飞 | 申请（专利权）人： | 江苏特丽亮镀膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50;C25D11/02;C23C14/02;C23C14/46 |
| 代理公司： | 无锡睿升知识产权代理事务所(普通合伙) 32376 | 代理人： | 张悦 |
| 地址： | 214000 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种磁控溅射镀膜的装置及其工作方法；其特征在于：包括离子源、镀膜室、溅射打底的弧靶、溅射镀膜的柱靶、产生电弧的柱弧、抽取所述镀膜室真空的泵体、向所述镀膜室内充入反应气体的充气装置和挂置工件的挂杆；所述柱弧设置在所述镀膜室内中间位置；所述弧靶围绕所述镀膜室内所述柱弧的一侧设置；所述柱靶和所述离子源围绕所述镀膜室内所述柱弧的另一侧设置；所述镀膜室分别连通所述泵体和所述充气装置；所述挂杆旋转设置在所述镀膜室内。解决了现有方案造成的沉积的膜层附着力较差，影响镀膜质量等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 镀膜 装置 及其 工作 方法 | ||
【主权项】：
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