[发明专利]一种磁控溅射镀膜的装置及其工作方法

权利要求书

1.一种磁控溅射镀膜的装置，其特征在于：包括离子源(4)、镀膜室(1)、溅射打底的弧靶(2)、溅射镀膜的柱靶(3)、产生电弧的柱弧(5)、抽取所述镀膜室(1)真空的泵体(6)、向所述镀膜室(1)内充入反应气体的充气装置(7)和挂置工件的挂杆(8)；所述柱弧(5)设置在所述镀膜室(1)内中间位置；所述弧靶(2)围绕所述镀膜室(1)内所述柱弧(5)的一侧设置；所述柱靶(3)和所述离子源(4)围绕所述镀膜室(1)内所述柱弧(5)的另一侧设置；所述镀膜室(1)分别连通所述泵体(6)和所述充气装置(7)；所述挂杆(8)旋转设置在所述镀膜室(1)内。

2.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜的装置，其特征在于：还包括驱动所述挂杆(8)旋转的旋转装置(11)；所述旋转装置(11)包括设置在所述挂杆(8)两端的副轮(12)、旋转设置在所述镀膜室(1)内的旋转杆(13)、设置在所述旋转杆(13)两端的主轮(14)和驱动所述旋转杆(13)旋转的第一动力装置(15)；所述旋转杆(13)连接所述第一动力装置(15)的驱动端；所述副轮(12)与所述主轮(14)相啮合。

3.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜的装置，其特征在于：所述镀膜室(1)内设置有驱动所述弧靶(2)、所述柱靶(3)和所述离子源(4)沿所述镀膜室(1)内旋转的驱动装置(81)；所述驱动装置(81)包括旋转设置在所述镀膜室(1)内的驱动架(82)、围绕所述镀膜室(1)内设置的第一导轨(83)、支撑所述驱动架(82)的第一滑块(84)、驱动所述驱动架(82)旋转的第二动力装置(85)、沿所述驱动架(82)滚动的滚轮(86)和支撑所述滚轮(86)的轮架(87)；所述驱动架(82)连接所述第二动力装置(85)的驱动端；所述第一滑块(84)滑动设置在所述第一导轨(83)上；所述轮架(87)围绕所述镀膜室(1)内并列设置；所述滚轮(86)旋转设置在所述轮架(87)上。

4.根据权利要求3所述的磁控溅射镀膜的装置，其特征在于：围绕所述镀膜室(1)内设置有第二滑块(88)和沿所述第二滑块(88)内滑动的第二导轨(89)；所述第二导轨(89)围绕所述驱动架(82)设置。

5.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜的装置，其特征在于：所述充气装置(7)包括喷射气体的旋转喷头(71)、流动所述气体的管道(72)、检测所述管道(72)内气体流量的流量计(73)和开合所述管道(72)的电动阀(74)；所述管道(72)的一端连通气体源；所述管道(72)的另一端连通所述旋转喷头(71)；所述旋转喷头(71)旋转设置在所述镀膜室(1)内。

6.根据权利要求5所述的磁控溅射镀膜的装置，其特征在于：所述充气装置(7)内设置有加热所述气体的加热装置(9)；所述加热装置(9)包括加热杆(91)和围绕所述加热杆(91)设置的加热片(92)；所述加热片(92)呈螺旋状围绕所述加热杆(91)设置；所述加热装置(9)置于所述管道(72)内。

7.一种磁控溅射镀膜的装置的工作方法，其特征在于：当磁控溅射镀膜的装置工作时，磁控溅射镀膜的装置的工作方法包括以下步骤：

预备步骤；该步骤具体包括：

(一)抽真空；通过泵体(6)抽取所述镀膜室(1)内空气；所述镀膜室(1)内真空度：4*10^-2～5*10^-2Pa；

(二)充气体；对气体进行加热；加热温度：80～85℃；将加热后气体充入所述镀膜室(1)内；

柱弧轰击步骤；通过引弧针引燃柱弧(5)；所述柱弧(5)产生电弧并发射金属蒸气；所述金属蒸气电离后与气体结合在工件表面形成薄膜；

第一次轰击打底步骤；弧靶(2)产生电场；离子源(4)产生离子经过所述电场加速形成离子束；所述离子束与所述气体反应后轰击所述弧靶(2)，产生弧靶原子；

第二次轰击打底步骤；柱靶(3)产生电场；所述离子源(4)产生离子经过所述电场加速形成离子束；所述离子束与所述气体反应后轰击所述柱靶(3)，产生柱靶原子；

沉积镀膜步骤；所述弧靶原子和所述柱靶原子沉积在工件表面形成薄膜。