[发明专利]半导体清洗设备有效
| 申请号： | 202011452206.X | 申请日： | 2020-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN112588691B | 公开（公告）日： | 2023-02-14 |
| 发明（设计）人： | 刘东旭 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/04 | 分类号： | B08B3/04;B08B13/00;G01M3/04;G01N33/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;王婷 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种半导体清洗设备，包括本体和设置在本体中的化学液槽、水槽、化学液排放管、水排放管、清洗液配给组件和液体检测部件，化学液槽和水槽分别用于对晶片进行化学清洗和水洗，清洗液配给组件分别与化学液槽和水槽连通，用于分别向化学液槽和水槽输送化学液体和水；化学液排放管一端与化学液槽连通，另一端贯穿本体延伸至本体外部，用于使化学液槽中的化学液体排放至本体外部，水排放管一端与水槽连通，另一端贯穿本体延伸至本体外部，用于使水槽中的水排放至本体外部，液体检测部件用于对泄漏至本体中的液体进行检测。本发明提供的半导体清洗设备能够降低本体漏液现象发生的概率，从而降低安全事故发生的概率，提高使用安全性。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 清洗 设备 | ||
【主权项】：
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