[发明专利]阵列基板在审
申请号: | 202011437129.0 | 申请日: | 2020-12-07 |
公开(公告)号: | CN112596313A | 公开(公告)日: | 2021-04-02 |
发明(设计)人: | 彭钊 | 申请(专利权)人: | TCL华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1345 | 分类号: | G02F1/1345;G02F1/1333 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 杜蕾 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种阵列基板,其上定义有显示区域和位于所述显示区域周侧的OLB区域,所述阵列基板包括衬底、设置于所述衬底层上的连接线层、保形覆盖于所述连接线层上的钝化层,以及设置于所述钝化层上且覆盖所述钝化层的有机平坦层,所述连接线层位于所述OLB区域,所述连接线层包括多个凹槽或多个凸起,所述钝化层和所述有机平坦层覆盖所述凹槽或所述凸起。通过将OLB区域的连接线层设置为具有凸起或凹槽的形状,钝化层保形覆盖于连接线路层上,能够增大后续形成的有机平坦层与钝化层之间的接触面积,进而增大有机平坦层与钝化层之间的粘附力,能够有效地改善OLB区域的有机平坦层发生的剥落现象。 | ||
搜索关键词: | 阵列 | ||
【主权项】:
暂无信息
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