[发明专利]一种通过磁饱和特性测量吸波涂层厚度的方法有效
| 申请号： | 202011422827.3 | 申请日： | 2020-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN112432588B | 公开（公告）日： | 2021-09-14 |
| 发明（设计）人： | 白利兵;钟卓文;周权;程玉华;张杰;陈聪;田露露 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | G01B7/06 | 分类号： | G01B7/06 |
| 代理公司： | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人： | 温利平 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种通过磁饱和特性测量吸波涂层厚度的方法，先根据激励线圈、铁芯、磁传感器和被测试件等搭建吸波涂层厚度测量模型，测量模型搭建完成后，依次增大激励线圈中的电流，当测量磁性图层达到磁饱和状态时，通过磁传感器测量出设置点处的磁感应强度，并记录下此时的电流，以及移除被测试件后设置点的磁感应强度，然后根据测量模型，构建设置点处的磁感应强度数学模型，最后反解磁感应强度数学模型得到涂层厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 通过 饱和 特性 测量 涂层 厚度 方法 | ||
【主权项】：
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