[发明专利]一种通过磁饱和特性测量吸波涂层厚度的方法有效

专利信息
申请号: 202011422827.3 申请日: 2020-12-08
公开(公告)号: CN112432588B 公开(公告)日: 2021-09-14
发明(设计)人: 白利兵;钟卓文;周权;程玉华;张杰;陈聪;田露露 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G01B7/06 分类号: G01B7/06
代理公司: 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 代理人: 温利平
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 通过 饱和 特性 测量 涂层 厚度 方法
【权利要求书】:

1.一种通过磁饱和特性测量吸波涂层厚度的方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)、建立测厚模型

(1.1)、在激励线圈中插入铁芯,在铁芯垂线方向,距离铁芯下端探头l处设置点a,用于放置磁传感器;当激励线圈上电后,通过磁传感器测量出点a处的磁感应强度,记为B1

(1.2)、将插入铁芯的激励线圈放置在被测试件的正中央,铁芯下端探头距离被测试件表面的距离为D,当激励线圈上电后,激励线圈激发出的磁场对被测试件的涂层进行磁化,此时,磁性涂层自身会产生磁场,并与激励线圈激发出的磁场在点a处进行叠加,通过磁传感器测量出点a处的磁感应强度;

(1.3)、依次增大激励线圈中的电流,并重复步骤(1.1)、(1.2)的操作,当磁性涂层达到磁饱和状态时,则磁性涂层自身产生的磁场不再增加,记录下此时的电流I1,以及点a处的磁感应强度B3

(2)、根据测厚模型,构建点a处的磁感应强度数学模型

(2.1)、根据涂层自身的磁化曲线,通过多项式拟合得到涂层中的磁场强度M2

其中,其中,wj表示多项式拟合参数,j=0,1,2,…,N,N表示拟合阶次;H表示外界磁场强度;

(2.2)、计算激励线圈激发出的磁场在铁芯下端面轴线上的磁场强度M1

其中,μ表示铁芯的磁导率,μ0表示空气的磁导率,n表示激励线圈的匝数,rp表示铁芯的半径,φ表示激励线圈的直径;

(2.3)、将磁化饱和后的磁性涂层等效为一个半径为r、高度为h、磁场强度为的均匀磁化的圆柱形永磁体,那么根据M1和M2计算出等效圆柱形永磁体磁化强度

其中,D为铁芯下端探头距离被测试件表面的距离,h为涂层厚度;

(2.4)、构建点a处的磁感应强度数学模型;

(3)、计算涂层厚度h;

通过对公式(4)中的h进行求解,得到涂层厚度h;

2.根据权利要求1所述的一种通过磁饱和特性测量吸波涂层厚度的方法,其特征在于,所述等效圆柱形永磁体的轴线与插入铁芯的轴线重合。

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