[发明专利]单片式湿法清洗装置及其清洗方法

摘要

本发明提供一种单片式湿法清洗装置及其清洗方法，该清洗装置包括：腔室、旋转平台、两个以上喷嘴、气化装置、抽真空装置、管路；腔室用于容置旋转平台，旋转平台用于承载晶圆且带动晶圆旋转，其中一个喷嘴用于向晶圆喷淋去离子水气体；气化装置设置于腔室外部并通过管路与喷嘴连接，用于将通入其内的去离子水气化为去离子水气体；抽真空装置用于对腔室抽真空。该清洗装置利用真空蒸镀法的原理，可使晶圆表面及深孔侧壁、底壁形成一层均匀的薄水膜，该薄水膜可改变晶圆表面的疏水性，可将喷淋至晶圆表面的药液快速且最大量的送入深孔的底部，从而保证深孔底部清洗效果的同时，最大程度的保护深孔侧壁和深孔的关键尺寸。