[发明专利]一种连续粉末镀膜的生产装置与方法在审
| 申请号: | 202011320510.9 | 申请日: | 2020-11-23 |
| 公开(公告)号: | CN112442682A | 公开(公告)日: | 2021-03-05 |
| 发明(设计)人: | 解明 | 申请(专利权)人: | 江汉大学 |
| 主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/44;C23C16/442;C23C16/02;C23C16/54 |
| 代理公司: | 武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙) 42231 | 代理人: | 易贤卫 |
| 地址: | 430056 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | 本发明涉及一种连续粉末镀膜的生产装置与方法,包括依次管道连接的预热部、包覆部和降温部,所述预热部、包覆部和降温部均包括罐体,设置在所述罐体底部的流化气进气管,设置在所述罐体内部且靠近所述流化气进气管的均流板,设置在所述罐体内部且靠近所述均流板的上方侧面的温度检测器。本发明提供连续粉末镀膜的生产装置,所述预热部、包覆部和降温部各自的罐体相当于三个不同的腔体,粉末的预热过程、包覆过程和降温过程分开进行,不在一个反应腔体内完成,这样使得进行下一步工艺过程不需要等待上一步工艺过程完成,各个工艺工程可以单独进行,节约了时间,降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 连续 粉末 镀膜 生产 装置 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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