[发明专利]一种连续粉末镀膜的生产装置与方法在审
| 申请号: | 202011320510.9 | 申请日: | 2020-11-23 |
| 公开(公告)号: | CN112442682A | 公开(公告)日: | 2021-03-05 |
| 发明(设计)人: | 解明 | 申请(专利权)人: | 江汉大学 |
| 主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/44;C23C16/442;C23C16/02;C23C16/54 |
| 代理公司: | 武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙) 42231 | 代理人: | 易贤卫 |
| 地址: | 430056 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 连续 粉末 镀膜 生产 装置 方法 | ||
1.一种连续粉末镀膜的生产装置,其特征在于,包括依次管道连接的预热部、包覆部和降温部,所述预热部、包覆部和降温部均包括罐体,设置在所述罐体底部的流化气进气管,设置在所述罐体内部且靠近所述流化气进气管的均流板,设置在所述罐体内部且靠近所述均流板的上方侧面的温度检测器,设置在所述罐体内部的搅拌装置和气压检测装置,设置在所述罐体的顶部的流化气排气管,设置在所述流化气排气管入口处的过滤装置,设置在所述罐体侧面的输料进管,以及设置在所述罐体侧面且靠近所述均流板上方的输料出管,所述输料进管和输料出管上均设置有真空阀门;所述预热部还包括设置在所述预热部的罐体外侧面的加热装置,所述包覆部还包括设置在所述包覆部的罐体外侧面的加热装置,设置在所述包覆部的流化气排气管内部的气体分析仪,以及设置在所述包覆部的流化气进气管上的反应气进气管;所述均流板用于均匀分散流化气和阻隔粉末,所述气压检测装置用于实时监测所述罐体内部的气压值,所述过滤装置用于防止粉末顺着流化气流出所述罐体。
2.根据权利要求1所述的一种连续粉末镀膜的生产装置,其特征在于:所述预热部至少设置有两个,所述包覆部设置有一个,所述降温部至少设置有一个,每个所述预热部的输料出管通过第一多通连接件与所述包覆部的输料进管相连通,每个所述降温部的输料进管通过第二多通连接件与所述包覆部的输料出管相连通。
3.根据权利要求1所述的一种连续粉末镀膜的生产装置,其特征在于:所述预热部至少设置有两个,所述包覆部至少设置有两个,所述降温部至少设置有一个,各个所述包覆部依次串联连通,每个所述预热部的输料出管通过第三多通连接件与处于起始位置的所述包覆部的所述输料进管相连通,每个所述降温部的输料进管通过第四多通连接件与处于末端位置的所述包覆部的输料出管相连通。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的连续粉末镀膜的生产装置,其特征在于:所述罐体的下部均设置成上大下小的圆台结构。
5.根据权利要求4所述的连续粉末镀膜的生产装置,其特征在于:所述均流板由耐热材料制成。
6.根据权利要求5所述的连续粉末镀膜的生产装置,其特征在于:所述输料进管以水平或者与竖直方向成开口向上锐角的方向连接到所述罐体上。
7.根据权利要求6所述的连续粉末镀膜的生产装置,其特征在于:所述真空阀门是蝶阀或者闸阀。
8.一种连续粉末镀膜的生产方法,其特征在于,采用权利要求1所述的连续粉末镀膜的生产装置,包括以下步骤:
步骤1:在所述预热部中通入粉末及流化气,当气压达到预期值时,加热流化后的粉末,当温度达到设定的温度值时,流化后的粉末预热完成;
步骤2:将步骤1中预热完成的流化粉末全部通入所述包覆部中,之后在所述包覆部中持续通入流化气,加热流化粉末,使得流化粉末温度保持在预设温度值内,再通入第一反应气,当检测到第一反应气后,停止通入第一反应气并保持流化气的持续通入,使用流化气去清洗包覆部中的第一反应气,直到第一反应气被清洗完成再通入第二反应气,当检测到第二反应气后,停止通入第二反应气并保持流化气的持续通入,使用流化气去清洗包覆部中的第二反应气,直到第二反应气及反应副产物被清洗完成,即在粉末表面完成一层镀膜;
步骤3:将步骤2中膜镀完成的流化粉末通入到所述降温部中,之后在所述降温部中持续通入流化气,当温度降至设定温度值时,输出镀膜完成的流化粉末。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江汉大学,未经江汉大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011320510.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





