[发明专利]多层基板表面处理层结构及其制造方法在审
申请号: | 202011259203.4 | 申请日: | 2020-11-12 |
公开(公告)号: | CN114121870A | 公开(公告)日: | 2022-03-01 |
发明(设计)人: | 邱丕良 | 申请(专利权)人: | 巨擘科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/498 | 分类号: | H01L23/498;H01L21/48 |
代理公司: | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人: | 翟羽 |
地址: | 中国台湾新竹科*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 一种多层基板表面处理层结构:一介电层;至少一焊垫层,形成于该介电层上或内嵌于该介电层中;至少一保护金属层,形成于该至少一焊垫层上且与该焊垫层接合,其中该至少一保护金属层主要仅包覆该至少一焊垫层之一上表面,该至少一保护金属层系作为与一外部组件焊接或接触之区域;以及一防焊层,形成于该介电层上且具有至少一开孔以曝露该至少一保护金属层。 | ||
搜索关键词: | 多层 表面 处理 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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