[发明专利]一种可控跨尺度激光干涉光刻装置有效

专利信息
申请号: 202011257866.2 申请日: 2020-11-12
公开(公告)号: CN112255895B 公开(公告)日: 2021-07-16
发明(设计)人: 杜婧;冯金花;龚建文 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 杨学明
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种可控跨尺度激光干涉光刻装置,包括支撑组件、精密工件台、光路组件、光路调整组件、视频图像对准模块及分割图形掩模调整台。支撑组件为整个装置的安装基准,由隔振光学平台、支座、支板及吊杆组成;精密工件台以实现同步扫描和步进拼接的功能,由XY粗动台、XYθ精动台、Z向台及平面光栅组成;光路组件为实现干涉光刻的光学元器件;光路调整组件用于各组反射镜位置的调整,以实现光刻图形偏振方向及周期的改变;视频图像对准模块由两组CCD和镜头组成;分割图形掩模调整台为手动调整台;分割图形掩模调整台结合视频图像对准模块。该装置的可变光路部分可以实现360度高精度旋转,从而可以实现图形任意偏振方向的控制。
搜索关键词: 一种 可控 尺度 激光 干涉 光刻 装置
【主权项】:
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