[发明专利]一种可控跨尺度激光干涉光刻装置有效
申请号: | 202011257866.2 | 申请日: | 2020-11-12 |
公开(公告)号: | CN112255895B | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | 杜婧;冯金花;龚建文 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电技术研究所 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人: | 杨学明 |
地址: | 610209 *** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 可控 尺度 激光 干涉 光刻 装置 | ||
1.一种可控跨尺度激光干涉光刻装置,其特征在于:包括支撑组件(100),精密工件台(200),光路组件(300),光路调整组件(400),视频图像对准模块(500)和分割图形掩模调整台(600),所述支撑组件(100)是整个装置的安装基准;所述精密工件台(200)布置在支撑组件(100)的隔振光学平台(101)上方,以实现同步扫描和步进拼接的功能;所述光路组件(300)为实现干涉光刻的光学元器件,分别固定在支撑组件(100)和光路调整组件(400)上;所述光路调整组件(400)固定在支撑组件(100)上,用于各组反射镜位置的调整,以实现光刻图形偏振方向及周期的改变;所述视频图像对准模块(500)安装在精密工件台(200)的XYθ精动台(202)上方,用于实现分割图形掩模板与精密工件台运动方向的对准;所述分割图形掩模调整台(600)布置在精密工件台(200)上方,固定于支撑组件(100)的支座(102)上,为手动调整台,有X、Y、θ三个自由度,以实现分割图形掩模板位置的手动调整;
所述支撑组件(100)由隔振光学平台(101)、支座(102)、支板(103)及吊杆(104)组成,所述隔振光学平台(101)是整个装置的安装基准,支座(102)固定在隔振光学平台(101)上,支板(103)通过吊杆(104)固定在隔振光学平台(101)下方;
所述精密工件台(200)由XY粗动台(201)、XYθ精动台(202)、Z向台(203)及平面光栅(204)组成,所述XY粗动台(201)由XY两层台组成,每层均采用直线电机作为驱动,精密级交叉滚珠导轨作为导向;XYθ精动台(202)采用三层柔性铰链机构,每一层均用压电陶瓷作为驱动,分别实现X、Y、θ三个自由度的微小运动;Z向台(203)采用步进电机及精密滚珠丝杠作为驱动,精密级交叉滚柱导轨作为导向,50nm分辨率的一维直线光栅作为位置测量形成闭环反馈,内置气缸+球碗调平机构,用于基片与分割图形掩模板的调平;平面光栅(204)布置在XYθ精动台(202)上方,对工件台X、Y、θ运动进行测量作为控制的位置反馈;
所述光路组件(300)由实现干涉光刻原理的光学元器件组成,包括激光器(301)、扩束准直模块(302)、光束控制模块(303);
所述光路调整组件(400)由偏振角旋转控制台(401)、两组反射镜线位移调整台(402)及两组反射镜角位移调整台(403)组成,所述偏振角旋转控制台(401)布置在支座(102)上,采用涡轮蜗杆机构,由步进电机驱动,控制整个可变光路的旋转,可实现光刻图形偏振方向的改变;反射镜线位移调整台(402)安装在偏振角旋转控制台(401)上,采用丝杠导轨机构,由步进电机驱动,可实现两组反射镜线位移的同时调节;反射镜角位移调整台(403)布置在反射镜线位移调整台(402)上,采用涡轮蜗杆机构,由步进电机驱动,可实现两组反射镜角位移的调节,两组反射镜线位移调整台(402)及反射镜角位移调整台(403)配合使用,可实现光刻图形周期的改变;
所述视频图像对准模块(500)由两组CCD(501)、两组镜头(502)和对准掩模板(503)组成,所述CCD(501)和镜头(502)安装在精密工件台(200)的XYθ精动台(202)上方,对准掩模板(503)安装在分割图形掩模调整台(600)的支撑座(601)下方;
所述分割图形掩模调整台(600)由支撑座(601)、手动三维台(602)及分割图形掩模板(603)组成,所述支撑座(601)固定于基座组件(100)的支座(102)上;所述手动三维台(602)固定在支撑座(601)上,采用V型导轨作为XY向的导向,交叉滚珠轴承作为θ向的导向,三组拉簧作为三个方向的复位机构,三组手轮作为驱动机构;所述分割图形掩模板(603)真空吸附于手动三维台(602)的下方。
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