[发明专利]一种降低侧壁缺陷复合的Micro-LED芯片结构及制备方法在审
申请号: | 202011256425.0 | 申请日: | 2020-11-11 |
公开(公告)号: | CN112259652A | 公开(公告)日: | 2021-01-22 |
发明(设计)人: | 寇建权 | 申请(专利权)人: | 天津赛米卡尔科技有限公司 |
主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06;H01L33/14;H01L33/00 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 王丽 |
地址: | 300385 天津市西青区经*** | 国省代码: | 天津;12 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种降低侧壁缺陷复合Micro‑LED芯片结构及制备方法,在传统Micro‑LED芯片结构基础之上,该芯片结构的P型半导体材料层、P型重掺杂半导体材料层和N型材料传输层之间结构改变;P型重掺杂半导体材料层仅位于P型半导体材料层上方中间区域,N型材料传输层完全覆盖P型半导体材料层和P型重掺杂半导体材料层,其中N型材料传输层与部分P型半导体材料层直接接触;本发明提出的器件结构利用N型材料传输层与P型半导体材料层在接触界面处形成的反偏结,耗尽P型半导体材料层中的空穴,从而减小芯片侧壁区域的非辐射复合效应,同时还能够提高注入电流的横向限制作用,以此来减小显示像素点之间的光学串扰效应。 | ||
搜索关键词: | 一种 降低 侧壁 缺陷 复合 micro led 芯片 结构 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津赛米卡尔科技有限公司,未经天津赛米卡尔科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011256425.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种集成冷却的气体燃料电池用增湿器内芯及增湿器
- 下一篇:一种缝合线固定器