[发明专利]双向ESD保护器件、结构及制备方法有效

专利信息
申请号: 202011235908.2 申请日: 2020-11-09
公开(公告)号: CN112151534B 公开(公告)日: 2021-08-17
发明(设计)人: 史林森;刘兴龙;关宇轩;李建平;刘森 申请(专利权)人: 微龛(广州)半导体有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L21/84
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 佟婷婷
地址: 510663 广东省广州市高新技术*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种双向ESD保护器件、结构及制备方法,ESD保护结构包括至少一个ESD保护结构单元,ESD保护结构单元包括基底、N阱、第一P阱、第二P阱、第一P注入区、第二P注入区、第三P注入区、第一N注入区、第二N注入区、第一导电栅、第二导电栅及功能层引出结构。本发明的双向ESD保护器件、结构及制备方法,通过前栅可以改变阱的电势,背栅不仅可以改变阱电势,还可以改变集电结的势垒,实现对触发电压的调制。无论正向还是反向的静电信号,都可以实现正负的调制,电压范围可变化而不影响其它器件,极大的增加了设计的灵活性以及系统的可靠性。本发明可采用多指结构设计,提升泄放电流能力。
搜索关键词: 双向 esd 保护 器件 结构 制备 方法
【主权项】:
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