[发明专利]一种提高脉冲风洞局部真空度的装置和方法在审

专利信息
申请号: 202011228511.0 申请日: 2020-11-06
公开(公告)号: CN112229595A 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 吕治国;张扣立;常雨;赵荣娟;龚红明;廖振洋 申请(专利权)人: 中国空气动力研究与发展中心超高速空气动力研究所
主分类号: G01M9/02 分类号: G01M9/02;G01M9/04
代理公司: 中国工程物理研究院专利中心 51210 代理人: 张晓林
地址: 621000 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种提高脉冲风洞局部真空度的装置和方法,所述的装置包括挡圈、底板、盖板和膜片。本发明通过在驱动压力不变的情况下,提高试验段的抽真空能力,具体在真空管平直段内安装一个膜片隔断装置,膜片隔断装置将试验段和真空容器装置隔开,在膜片隔断装置前后配置旁通管路和旁通阀,在风洞试验准备时,首先打开旁通阀门,将试验段、真空管平直段和真空容器装置连通,开启真空机组将这部分相对较大容积空间内的气体抽真空到所需真空要求。本发明大幅度提高了驱动压力和试验段真空环境压力比值,从而达到提高风洞驱动能力的效果,解决了现有真空机组和试验段、真空管平直段、真空容器装置的布置不能满足使用要求的问题。
搜索关键词: 一种 提高 脉冲 风洞 局部 真空 装置 方法
【主权项】:
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