[发明专利]发光器件的制造方法有效

专利信息
申请号: 202011219786.8 申请日: 2020-11-04
公开(公告)号: CN112968083B 公开(公告)日: 2022-05-20
发明(设计)人: 王涛 申请(专利权)人: 重庆康佳光电技术研究院有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/36;H01L33/44
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 王晓玲
地址: 402760 重庆市璧*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明涉及一种发光器件及其制造方法。该制造方法包括以下步骤:提供表面具有外延结构的衬底,外延结构具有依次层叠在衬底上的第一半导体层、有源层和第二半导体层;在外延结构上形成电极孔,电极孔穿过第二半导体层和有源层;在外延结构上顺序形成牺牲层和钝化层,牺牲层覆盖第二半导体层远离衬底一侧的第一表面,钝化层覆盖牺牲层和电极孔的内表面;去除第一表面上的钝化层、电极孔底表面的钝化层以及牺牲层,保留电极孔侧表面的钝化层;在第一表面一侧形成第一电极和第二电极,第一电极与第二半导体层电连接,第二电极穿过电极孔与第一半导体层电连接。上述制造方法避免了电极孔的光刻工艺窗口小而导致的刻蚀困难,有利于芯片尺寸的微缩化。
搜索关键词: 发光 器件 制造 方法
【主权项】:
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