[发明专利]凸面双闪耀光栅制备方法、装置及凸面双闪耀光栅在审
| 申请号： | 202011186785.8 | 申请日： | 2020-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN112327396A | 公开（公告）日： | 2021-02-05 |
| 发明（设计）人： | 郭培亮;李莹;李坤;张玉良;杨海涛;赵东峰 | 申请（专利权）人： | 歌尔股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人： | 梁馨怡 |
| 地址： | 261031 山东省潍*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及光学器件制备技术领域，尤其涉及一种凸面双闪耀光栅制备方法、装置及凸面双闪耀光栅。所述方法包括：通过双光束曝光法对已涂布光刻胶的凸面基底进行光刻处理，以获取光刻胶光栅，所述光刻胶光栅包括不同的预设光栅区域；根据各预设光栅区域对应的预设闪耀角获取对应预设光栅区域的同质掩模槽形；基于各预设光栅区域的同质掩模槽形，以所述光刻胶为掩模对对应的预设光栅区域进行离子束刻蚀，以获取石英掩模光栅；通过分区遮蔽方法以石英为掩模，对所述石英掩模光栅进行倾斜扫面离子束刻蚀，获得凸面双闪耀光栅。本发明通过同质掩模法制作凸面闪耀光栅，降低制作难度，提升制作速率。 | ||
| 搜索关键词： | 凸面 闪耀 光栅 制备 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于歌尔股份有限公司，未经歌尔股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011186785.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
