[发明专利]一种氧化物薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 202011157653.2 申请日: 2020-10-26
公开(公告)号: CN112376024B 公开(公告)日: 2022-08-16
发明(设计)人: 罗建恒 申请(专利权)人: 北京北方华创微电子装备有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/06;C23C14/54;C23C14/08;C23C14/10;H01L21/02
代理公司: 北京思创毕升专利事务所 11218 代理人: 孙向民;廉莉莉
地址: 100176 北京市大*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开一种氧化物薄膜的制备方法,包括:将待沉积薄膜的晶圆放入反应腔室的基座上;向反应腔室内通入氩气和氧气的混合气体,对靶材施加直流功率和射频功率,使该混合气体形成等离子体,该等离子体轰击靶材,以在晶圆上形成氧化物薄膜;停止对靶材施加功率,向反应腔室内通入氩气、氧气和氮气的混合气体,对基座施加射频功率,使该混合气体形成等离子体,该等离子体轰击氧化物薄膜,以形成氮氧化物薄层;继续向反应腔室内通入氩气、氧气和氮气的混合气体,对靶材施加直流功率和射频功率,继续对基座施加射频功率,使该混合气体形成等离子体,该等离子体轰击靶材和氮氧化物薄层,以在氮氧化物薄层上形成氮氧化物薄膜。
搜索关键词: 一种 氧化物 薄膜 制备 方法
【主权项】:
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