[发明专利]掩模组件的清洁装置在审
| 申请号： | 202011145129.3 | 申请日： | 2020-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN112974385A | 公开（公告）日： | 2021-06-18 |
| 发明（设计）人： | 金栽豊;姜爀 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;B08B3/02;B08B5/02;F26B21/14;F26B21/00;C23C14/04;C23C16/04 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;刘铮 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了掩模组件的清洁装置。掩模组件的清洁装置包括有机溶剂清洁部、第一超纯水清洁部、电解质清洁部、第二超纯水清洁部和等离子体供给部，其中，所述有机溶剂清洁部用有机溶剂对掩模组件的异物进行清洁，所述第一超纯水清洁部用超纯水对在所述有机溶剂清洁部中清洁的所述掩模组件进行清洁，所述电解质清洁部用电解质对在所述第一超纯水清洁部中清洁的所述掩模组件进行清洁，所述第二超纯水清洁部用超纯水对在所述电解质清洁部中清洁的所述掩模组件进行清洁，并且所述等离子体供给部用等离子气体对用超纯水清洁的所述掩模组件进行干燥并且用等离子气体去除所述掩模组件的异物。 | ||
| 搜索关键词： | 模组 清洁 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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