[发明专利]掩模组件的清洁装置

说明书

本发明公开了掩模组件的清洁装置。掩模组件的清洁装置包括有机溶剂清洁部、第一超纯水清洁部、电解质清洁部、第二超纯水清洁部和等离子体供给部，其中，所述有机溶剂清洁部用有机溶剂对掩模组件的异物进行清洁，所述第一超纯水清洁部用超纯水对在所述有机溶剂清洁部中清洁的所述掩模组件进行清洁，所述电解质清洁部用电解质对在所述第一超纯水清洁部中清洁的所述掩模组件进行清洁，所述第二超纯水清洁部用超纯水对在所述电解质清洁部中清洁的所述掩模组件进行清洁，并且所述等离子体供给部用等离子气体对用超纯水清洁的所述掩模组件进行干燥并且用等离子气体去除所述掩模组件的异物。

技术领域

本发明的实施方式涉及装置，并且更详细地，涉及掩模组件的清洁装置。

背景技术

基于移动性的电子设备被广泛使用。作为移动电子设备，除了如移动电话的小型电子设备以外，近年来平板PC也被广泛使用。

为了支持各种功能，如上所述的移动电子设备包括显示装置以向用户提供诸如图像或视频的视觉信息。近来，随着用于驱动显示装置的其它部件的小型化，显示装置在电子设备中所占的比例呈逐渐增加的趋势，并且也已开发出能够由平坦状态弯曲成具有预定角度的结构。

在这种显示装置的制造中会形成各种层，并且掩模组件可用于形成上述各种层中的任一层。在这种情况下，掩模组件可使用多次，并且在使用中，制造工艺中所使用的物质可能附着到掩模组件的表面。在这种情况下，应在去除附着到掩模组件的物质之后再次使用，才能够长时间使用掩模组件。

发明内容

解决的技术问题

在反复使用掩模组件的情况下，在工艺中使用的物质可能被吸附并降低使用掩模组件的工艺的准确性，并且缩短掩模组件的使用寿命，从而可能导致制造成本上升并且消耗的制造时间长。本发明的实施方式提供对掩模组件进行清洁以便能够持续地使用掩模组件的掩模组件清洁装置。

解决方法

本发明的一实施方式公开了掩模组件的清洁装置，所述掩模组件的清洁装置包括有机溶剂清洁部、第一超纯水清洁部、电解质清洁部、第二超纯水清洁部和等离子体供给部，其中，所述有机溶剂清洁部用有机溶剂对掩模组件的异物进行清洁，所述第一超纯水清洁部用超纯水对在所述有机溶剂清洁部中清洁的所述掩模组件进行清洁，所述电解质清洁部用电解质对在所述第一超纯水清洁部中清洁的所述掩模组件进行清洁，所述第二超纯水清洁部用超纯水对在所述电解质清洁部中清洁的所述掩模组件进行清洁，并且所述等离子体供给部用等离子气体对用超纯水清洁的所述掩模组件进行干燥并且用等离子气体去除所述掩模组件的异物。

在本实施方式中，所述等离子体供给部可包括容纳部和头部，其中，所述头部布置在所述容纳部内部并且朝着所述掩模组件侧喷射所述等离子气体。

在本实施方式中，所述等离子体供给部还可包括排气部，其中，所述排气部与所述容纳部连接并且将所述容纳部内部的气体排出到外部。

在本实施方式中，所述头部可设置有多个喷射孔，并且所述多个喷射孔中的至少一个可形成为相对于所述头部的表面倾斜。

在本实施方式中，所述头部可包括第一头部和第二头部，其中，所述第一头部布置成面向所述掩模组件的中央部分，并且所述第二头部布置成面向所述掩模组件的边缘部分。

在本实施方式中，所述第一头部的形状可与所述第二头部的形状彼此不同。

在本实施方式中，从所述第一头部喷射的等离子气体的方向可与从所述第二头部喷射的等离子气体的方向彼此不同。

在本实施方式中，所述头部可包括第一头部和第二头部，其中，所述第一头部布置成面向所述掩模组件的一表面，并且所述第二头部布置成面向所述掩模组件的、与所述掩模组件的一表面不同的另一表面。