[发明专利]一种阴阳文互补光强掩膜版双光束投影光刻装置及方法

摘要

本发明公开一种阴阳文互补光强掩膜版双光束投影光刻装置以及方法，属于投影光刻领域，投影光刻装置包括两种形式，一种为分体式，一种为合体式，分体式两束光分别进入两个物镜，合体式两束光共用一个物镜。本装备使用两束相同或不同波长的光，一束为制造光，另一束为辅助光，两束光被调制为光强阴阳文互补的图案，辅助光对制造光产生的图案边缘的衍射具有矫正作用，可以减低或者消除制造光产生的图案边缘的衍射模糊范围，从而达到超衍射极限的光刻分辨率。本发明适用于阴阳文互补光强掩膜版双光束投影光刻的实现，相比传统光刻机减小光源波长来提高光刻分辨率的设计思路，本发明能大幅度降低光刻机制造难度和制造成本。