[发明专利]一种用于碳化硅CMP的抛光组合物及其制备方法在审
| 申请号： | 202011059655.8 | 申请日： | 2020-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN112029417A | 公开（公告）日： | 2020-12-04 |
| 发明（设计）人： | 宋伟红;蔡庆东 | 申请（专利权）人： | 常州时创新材料有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 苏州曼博专利代理事务所(普通合伙) 32436 | 代理人： | 宋俊华 |
| 地址： | 213300 江苏省常*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于碳化硅CMP的抛光组合物的制备方法，通过如下方法制备：将分散剂、促进剂、pH缓冲剂、润湿剂、络合剂加入水中，搅拌均匀后加入磨料，再加入消泡剂，再用pH调节剂调整溶液的pH值，再陈化。采用本发明抛光液对碳化硅晶片进行CMP，可以具有较好的去除速率和表面光洁度，粗糙度可达到0.2nm以下。本发明抛光组合物是良好的碳化硅晶片抛光剂，可替代硬质磨料组合物，改善粗糙度和光洁度，且绿色环保。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 碳化硅 cmp 抛光 组合 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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