[发明专利]基板支承台和等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202011010375.8 | 申请日： | 2020-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN112614768A | 公开（公告）日： | 2021-04-06 |
| 发明（设计）人： | 孙亮;高桥智之;佐佐木真也;佐佐木胜 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供基板支承台和等离子体处理装置。提供用于响应性良好地控制载置于基板支承台的基板的温度的技术。在一个例示性的实施方式中提供一种基板支承台。基板支承台包括第1构件、第2构件、基板支承部以及一个以上的热电元件。第1构件在上部具有凹部，并为金属制。第2构件设于第1构件上，用于密封凹部，并为金属制。基板支承部设于第2构件上。热电元件配置于凹部。凹部由传热介质填满。 | ||
| 搜索关键词： | 支承 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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