[发明专利]忆阻器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011001124.3 申请日: 2020-09-22
公开(公告)号: CN114256289A 公开(公告)日: 2022-03-29
发明(设计)人: 吴华强;钱鹤;李辛毅 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: H01L27/24 分类号: H01L27/24
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 赵国荣;刘晓冰
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种忆阻器及其制备方法。该忆阻器包括至少一个忆阻单元,至少一个忆阻单元中的每个包括晶体管和至少一个忆阻元件,晶体管包括源极和漏极;至少一个忆阻元件中的每个包括第一电极、阻变层、第二电极以及钝化层,第一电极与源极或漏极电连接;阻变层在第一电极和第二电极之间;钝化层至少覆盖阻变层的侧壁。该钝化层可以避免阻变层和与其相邻的介质层或绝缘层之间产生离子相互扩散的问题,并且在忆阻器包括多个忆阻单元时,还可以避免忆多个阻单元在工作过程中产生串扰而对忆阻器的整体性能产生不良影响。
搜索关键词: 忆阻器 及其 制备 方法
【主权项】:
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