[发明专利]一种用于真空镀膜的双开型挡板结构在审

专利信息
申请号: 202010974371.5 申请日: 2020-09-16
公开(公告)号: CN111945114A 公开(公告)日: 2020-11-17
发明(设计)人: 金炯;张金徽;王山 申请(专利权)人: 浙江赛威科光电科技有限公司
主分类号: C23C14/22 分类号: C23C14/22
代理公司: 北京沁优知识产权代理有限公司 11684 代理人: 王丽君
地址: 313000 浙江省湖州市德*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种用于真空镀膜的双开型挡板结构,其技术方案要点是包括真空镀膜机架、旋转运动输出件、主动轴、从动轴、配合齿轮、挡板以及固定于真空镀膜机架上的固定板,主动轴与从动轴均转动连接于固定板上,主动轴与从动轴上均设置有配合齿轮,两个配合齿轮相互啮合,旋转运动输出件用于带动主动轴旋转,挡板设置有两个,挡板的横截面呈半圆形设置,主动轴与从动轴上分别固定连接有一个挡板。基片架位于挡板下方,基片架的两个侧壁上设置有涂料腔,涂料腔内容纳有防腐蚀涂料,基片架侧壁上还设置有刷毛层。该挡板结构对于挡板任意一侧的空间需求小,有利于减小真空镀膜设备的使用所需空间,并且能够提高挡板的使用寿命。
搜索关键词: 一种 用于 真空镀膜 双开 挡板 结构
【主权项】:
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