[发明专利]光学薄膜用溅射阴极布气系统在审

专利信息
申请号: 202010909278.6 申请日: 2020-09-02
公开(公告)号: CN111876742A 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 靳伟;戴秀海;陈建飞 申请(专利权)人: 光驰科技(上海)有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/54
代理公司: 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 代理人: 周宇凡
地址: 200444 上海市宝*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及薄膜制备技术领域,尤其是一种光学薄膜用溅射阴极布气系统,系统包括至少一段双套管管路,双套管管路连接有气体质量流量控制器且其输送的工艺气体的质量及流量由气体质量流量控制器控制;双套管管路由内管以及套设在内管外围的外管构成,内管和外管上分别开设有出气孔。本发明的优点是:1)工艺气体由多段式布局,并由气体质量流量控制器分别独立控制,可以根据工艺需求分段式的调节进入阴极单元腔体的气体的流量;2)双套管的使用,可以有效的减小单段的外管上分布的各个出气孔处的压差;3)气流传输导流挡板可以使气体多次反射并且引导气体往靶面定向流出;4)扩散导流板可以控制引导气体进入腔体内部的方向。
搜索关键词: 光学薄膜 溅射 阴极 系统
【主权项】:
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