[发明专利]用于减少因曝光不均匀所导致的布局失真的方法与系统在审
| 申请号： | 202010876357.1 | 申请日： | 2020-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN112445081A | 公开（公告）日： | 2021-03-05 |
| 发明（设计）人： | 陆埼达;廖家辉;林宜弘;蔡启铭 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 李春秀 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明实施例涉及用于减少因曝光不均匀所导致的布局失真的方法与系统。根据本发明的一些实施例，提供一种用于调整设计布局的方法、非暂时性计算机可读存储媒体及系统。所述方法包括：接收设计布局，包含所述设计布局的外围区域中的特征；根据工件的曝光场中的曝光分布确定与所述外围区域相关联的第一补偿值；及通过根据所述补偿值修改所述特征的形状来调整所述设计布局。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 减少 曝光 不均匀 导致 布局 失真 方法 系统 | ||
【主权项】：
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