[发明专利]一种激光器及其制作方法在审
| 申请号： | 202010833416.7 | 申请日： | 2020-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN111817136A | 公开（公告）日： | 2020-10-23 |
| 发明（设计）人： | 刘建平;胡磊;任霄钰;张立群;杨辉 | 申请（专利权）人： | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
| 主分类号： | H01S5/20 | 分类号： | H01S5/20;H01S5/22 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人： | 孙伟峰 |
| 地址： | 215123 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种半导体激光器的制作方法，该制作方法包括：在衬底上依序层叠形成第一光限制层和有源层；在有源层上形成厚度小于限光最低厚度的第二光限制层，其中，限光最低厚度指的是能够对光进行限制的光限制层的最低厚度；在第二光限制层上形成由透明导电氧化物制成的光限制补偿层，光限制补偿层用于结合第二光限制层以实现对光的限制。本发明还公开了一种氮化镓基激光器。本发明解决了现有的氮化镓基激光器的效率较低的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光器 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
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