[发明专利]阵列基板及其制备方法与显示面板在审
| 申请号： | 202010800888.2 | 申请日： | 2020-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN112002754A | 公开（公告）日： | 2020-11-27 |
| 发明（设计）人： | 李子然 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/45 | 分类号： | H01L29/45;H01L29/49;H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 刘泳麟 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种阵列基板及其制备方法与显示面板，所述阵列基板包括栅极金属层以及源漏极金属层，所述栅极金属层以及源漏极金属层的至少一者包括导电功能层与堆叠于所述导电功能层上的结合改善层，所述结合改善层上表面的表面粗糙度大于所述导电功能层上表面的表面粗糙度。在该结合改善层上沉积绝缘层后，绝缘层会与结合改善层之间的接触面积更大而更紧密地结合，从而大大增加了金属层与绝缘层之间的附着力，以此降低金属层与绝缘层之间因应力不匹配导致的膜层剥离脱落的风险，提高阵列基板的制备良率。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制备 方法 显示 面板 | ||
【主权项】：
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