[发明专利]曝光设置设备及其控制方法以及存储介质有效
| 申请号： | 202010788248.4 | 申请日： | 2020-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN112351189B | 公开（公告）日： | 2022-11-04 |
| 发明（设计）人： | 渡边和宏;浅野真由;橘川武史;山崎伸吾;中田武司 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | H04N5/232 | 分类号： | H04N5/232;H04N5/235;H04N9/04;H04N9/73 |
| 代理公司： | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人： | 魏启学 |
| 地址： | 日本东京都大*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及曝光设置设备及其控制方法以及存储介质。提供了曝光设置设备。显示控制单元进行控制以在显示单元上显示坐标系区域、第一指标、和第二指标。坐标系区域表示包括与第一曝光控制参数相对应的第一轴和与第二曝光控制参数相对应的第二轴的坐标系。第一指标指示与预定曝光相对应的第一曝光控制参数的值和第二曝光控制参数的值的多个组合在坐标系区域中的位置。第二指标指示第一曝光控制参数的设置值和第二曝光控制参数的设置值的组合在坐标系区域中的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 设置 设备 及其 控制 方法 以及 存储 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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