[发明专利]曝光设置设备及其控制方法以及存储介质有效

专利信息
申请号: 202010788248.4 申请日: 2020-08-07
公开(公告)号: CN112351189B 公开(公告)日: 2022-11-04
发明(设计)人: 渡边和宏;浅野真由;橘川武史;山崎伸吾;中田武司 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: H04N5/232 分类号: H04N5/232;H04N5/235;H04N9/04;H04N9/73
代理公司: 北京魏启学律师事务所 11398 代理人: 魏启学
地址: 日本东京都大*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 曝光 设置 设备 及其 控制 方法 以及 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种曝光设置设备,包括:

获得单元,其被配置为获得第一曝光控制参数的设置值;

第一确定单元,其被配置为基于所述第一曝光控制参数的设置值来确定第二曝光控制参数的设置值,使得所述第一曝光控制参数的设置值和所述第二曝光控制参数的设置值的组合与预定曝光相对应;以及

显示控制单元,其被配置为进行控制以在显示单元上显示坐标系区域、第一指标和第二指标,所述坐标系区域表示包括与所述第一曝光控制参数相对应的第一轴和与所述第二曝光控制参数相对应的第二轴的坐标系,所述第一指标指示与所述预定曝光相对应的所述第一曝光控制参数的值和所述第二曝光控制参数的值的多个组合在所述坐标系区域中的位置,所述第二指标指示所述第一曝光控制参数的设置值和所述第二曝光控制参数的设置值的组合在所述坐标系区域中的位置。

2.根据权利要求1所述的曝光设置设备,还包括:

改变单元,其被配置为根据用户操作来改变所述第一曝光控制参数的设置值,

其中,在改变了所述第一曝光控制参数的设置值的情况下,

所述第一确定单元基于所述第一曝光控制参数的改变后的设置值来改变所述第二曝光控制参数的设置值,使得所述第一曝光控制参数的改变后的设置值和所述第二曝光控制参数的改变后的设置值的组合与所述预定曝光相对应,以及

所述显示控制单元进行控制以改变所述第二指标的显示位置,从而指示所述第一曝光控制参数的改变后的设置值和所述第二曝光控制参数的改变后的设置值的组合在所述坐标系区域中的位置。

3.根据权利要求2所述的曝光设置设备,其中,

所述第一指标具有连接与所述预定曝光相对应的所述多个组合在所述坐标系区域中的位置的外观,以及

进行控制以改变所述第二指标的显示位置包括:进行控制,以使得所述第二指标沿着所述第一指标从改变前的所述第二指标的显示位置移动到改变后的所述第二指标的显示位置。

4.根据权利要求2或3所述的曝光设置设备,其中,

所述显示控制单元进行控制以在所述显示单元上显示第一线段,所述第一线段平行于所述第二轴且通过所述第一曝光控制参数的设置值和所述第二曝光控制参数的设置值的组合在所述坐标系区域中的位置,以及

在改变了所述第一曝光控制参数的设置值的情况下,所述显示控制单元进行控制以改变所述第一线段的显示位置,从而通过所述第一曝光控制参数的改变后的设置值和所述第二曝光控制参数的改变后的设置值的组合在所述坐标系区域中的位置。

5.根据权利要求4所述的曝光设置设备,还包括:

检测单元,其被配置为检测针对所述显示单元的触摸,

其中,在检测到涉及从所述第一线段的显示位置到另一位置的触摸的滑动操作的情况下,所述改变单元基于所述滑动操作期间在与所述第二轴垂直的方向上的触摸的移动量来改变所述第一曝光控制参数的设置值。

6.根据权利要求4所述的曝光设置设备,其中,

所述显示控制单元进行控制以在所述显示单元上显示第二线段,所述第二线段平行于所述第一轴且通过所述第一曝光控制参数的设置值和所述第二曝光控制参数的设置值的组合在所述坐标系区域中的位置。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的曝光设置设备,还包括:

测光单元,其被配置为测量被摄体的亮度;以及

第二确定单元,其被配置为基于测量的结果来确定所述预定曝光,

其中,所述显示控制单元进行控制以根据基于测量的结果对所述预定曝光的确定来显示所述第一指标。

8.根据权利要求1至3中任一项所述的曝光设置设备,其中,

所述显示控制单元进行控制,以连同所述坐标系区域、所述第一指标和所述第二指标一起将经由摄像单元进行的连续摄像所生成的多个图像作为实时取景图像顺次显示在所述显示单元上。

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