[发明专利]一种单晶炉半导体石墨坩埚提升装置在审
| 申请号： | 202010669534.9 | 申请日： | 2020-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN111996584A | 公开（公告）日： | 2020-11-27 |
| 发明（设计）人： | 陈永贵;张培林;武建军;柴利春;张作文;王志辉 | 申请（专利权）人： | 大同新成新材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B15/00 | 分类号： | C30B15/00;C30B29/06 |
| 代理公司： | 太原荣信德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 14119 | 代理人： | 杨凯;连慧敏 |
| 地址： | 037002 *** | 国省代码： | 山西;14 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种单晶炉半导体石墨坩埚提升装置，包括底座，所述底座顶部一侧的中间位置处设置有坩埚座，所述坩埚座内底部设置有坩埚，所述底座顶部远离坩埚座一侧的中间位置处设置有支撑柱，所述支撑柱的顶部设置有电机，所述电机的输出端设置有转轴，所述转轴的顶部设置有固定板C，所述固定板C底部的边缘处均匀设置有多组电动气缸A，所述电动气缸A的输出端设置有固定板B；本发明装置通过在钳子上加盖子，使用石墨坩埚时，加工结束后，即使状态可能是液体，钳子在夹取的时候上面的盖板会将坩埚口给盖住，工作人员在取出的时候，就会安全一些，液体也不会洒落，减少了对工作人员的伤害。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 单晶炉 半导体 石墨 坩埚 提升 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大同新成新材料股份有限公司，未经大同新成新材料股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010669534.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
