[发明专利]一种高质量草状五氧化二钒晶体及其制备方法和基于其的低维材料有效

专利信息
申请号: 202010668344.5 申请日: 2020-07-13
公开(公告)号: CN111876826B 公开(公告)日: 2021-09-17
发明(设计)人: 谢伟广;曾文;陈楠;张宇靖;赖浩杰 申请(专利权)人: 暨南大学
主分类号: C30B29/16 分类号: C30B29/16;C30B23/00;C30B29/60;B82Y40/00
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 杨燕瑞
地址: 510632 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明属于晶体材料技术领域,具体公开了一种高质量草状V2O5晶体及其制备方法。本发明采用一种改进版的物理气相沉积法制备V2O5晶体,即V2O5粉末在高温区蒸发成V2O5气体分子,在低温区沉积生长形成V2O5晶体。在制备过程中,携带V2O5气体分子的载气(氧气)通过倒机翼状载板时,由于上下气流流速不同,产生压强差,增强了V2O5气体分子在衬底上沉积的效率。本发明的制备方法工艺简单,效率高,可适用于规模化生产,同时本发明制备得到的草状V2O5晶体具有表面光滑、物相单一、结晶性好以及大尺寸等特点,此外,通过加工处理可得到V2O5的低维纳米结构材料,为进一步研究V2O5的相关性能、应用提供了原材料。
搜索关键词: 一种 质量 草状五 氧化 晶体 及其 制备 方法 基于 材料
【主权项】:
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